衬底偏压对γ′-Fe4 N薄膜磁性的影响

赵利军; 王丽丽; 宫杰; 郑伟涛

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衬底偏压对γ′-Fe4 N薄膜磁性的影响

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摘要

采用直流磁控溅射方法, 以Ar/N2(N2/(Ar+N2)=10%)为放电气体, 在Si(100)单晶衬底上获得了γ′-Fe4N薄膜样品. 利用X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究衬底偏压对γ′-Fe4N薄膜样品的影响. 结果表明, 随着衬底负偏压的增大, γ′-Fe4N薄膜样品的晶胞参数减小, Fe和N的化合效率与样品的致密度提高, 表面缺陷减少, 矫顽力降低.

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来源
《吉林大学学报（理学版）》 |2008年第5期|963-966|共4页
作者
赵利军; 王丽丽; 宫杰; 郑伟涛;
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作者单位

长春大学,理学院,长春,130022;

长春大学,理学院,长春,130022;

长春大学,理学院,长春,130022;

吉林大学,材料科学与工程学院,长春,130012;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
γ′-Fe4N薄膜; 衬底偏压; 磁性;

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