NiFe纳米线磁化反转机制的微磁模拟

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• 来源
  《磁性材料及器件》 |2008年第5期|23-25,50|共4页
• 作者

  董凯锋; 杨晓非; 鄢俊兵; 晋芳; 程伟明; 程晓敏;

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• 作者单位

  华中科技大学,电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学,电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学,电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

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  华中科技大学,电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

  华中科技大学,电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 介观物理;
• 关键词

  NiFe纳米线; 微磁学模拟; 磁化反转机制; 矫顽力;