纳米SiO2改性紫外光固化有机硅杂化材料研究

刘长利; 吴文健; 满亚辉; 张学骜; 钱斯文

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纳米SiO2改性紫外光固化有机硅杂化材料研究

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合成了光敏性有机硅树脂PSUA,采用超声分散法将纳米SiO2分散在光敏性有机硅体系中,通过紫外光固化方式制备了光固化有机硅杂化材料。研究了纳米SiO2含量对杂化体系稳定性和光固化速率的影响,测定了光固化膜硬度,用扫描电镜观察了光固化膜断面形貌。实验结果表明,表面改性的纳米SiO2在杂化体系中分散比较均匀,稳定性好,能够有效增强光固化膜的硬度,但降低了光固化速率,杂化体系中纳米SiO2的用量以3%~5%为宜。

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来源
《材料工程》 |2006年第s1期|75-78|共4页
作者
刘长利; 吴文健; 满亚辉; 张学骜; 钱斯文;
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作者单位

国防科技大学航天与材料工程学院;

国防科技大学航天与材料工程学院;

国防科技大学航天与材料工程学院;

国防科技大学航天与材料工程学院;

国防科技大学航天与材料工程学院湖南长沙410073;

湖南长沙410073;

湖南长沙410073;

湖南长沙410073;

湖南长沙410073;

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正文语种 chi
中图分类 TB383.1;
关键词
光固化; 有机硅; 纳米二氧化硅;

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