多孔硅与聚乙烯咔唑复合光电性能研究

赵毅; 杨德仁; 周成瑶; 阙端麟

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多孔硅与聚乙烯咔唑复合光电性能研究

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用旋涂法实现了多孔硅与聚乙烯咔唑(PVK)的复合,研究了多孔硅/PVK复合体系的光学性能和电学性能.PL谱的测试发现,复合体系的PL同时具有多孔硅和PVK的峰.此外,在485nm的位置出现了一个新峰,讨论了这个峰的来源.Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,多孔硅/PVK异质结与多孔硅相比,Ⅰ-Ⅴ曲线呈现更好的整流特性,讨论了其原因.

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来源
《材料科学与工程学报》 |2003年第4期|507-509|共3页
作者
赵毅; 杨德仁; 周成瑶; 阙端麟;
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作者单位

浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类材料;发光器件;
关键词
多孔硅; 发光; Ⅰ-Ⅴ特性; PVK;

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