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源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响

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以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.拉曼光谱表明,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D)/I(G)减小,晶粒增大,芳香环结构比例下降.红外吸收光谱分析证实了这些推论,指出这是由于薄膜中氟含量上升的结果.

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来源
《材料科学与工程学报》 |2003年第4期|539-541|共3页
作者
江美福; 宁兆元;
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作者单位

苏州大学物理科学与技术学院,江苏,苏州,215006;

苏州大学物理科学与技术学院,江苏,苏州,215006;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
反应磁控溅射; 氟化类金刚石薄膜; 拉曼光谱; 红外吸收光谱;

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