磁控溅射头罩镀膜膜厚分布模拟

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• 来源
  《西北工业大学学报》 |2002年第1期|141-144|共4页
• 作者

  宋建全; 刘正堂; 于忠奇; 耿东生; 郑修麟;

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• 作者单位

  西北工业大学,材料科学与工程系,陕西,西安,710072;

  西北工业大学,材料科学与工程系,陕西,西安,710072;

  西北工业大学,材料科学与工程系,陕西,西安,710072;

  西北工业大学,材料科学与工程系,陕西,西安,710072;

  西北工业大学,材料科学与工程系,陕西,西安,710072;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 红外光学材料;
• 关键词

  磁控溅射; 头罩; 膜厚均匀性; 模拟;