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光学合成孔径成像系统的杂散光分析与抑制

         

摘要

为了提高光学合成孔径成像系统的成像质量,减小杂散光对成像系统的影响,文中结合杂散光辐照度计算结果和相机参数对光学合成孔径系统进行了杂散光分析。在杂散光分析软件TracePro中建立了系统的光机模型,对系统进行杂散光追迹,分析了杂散辐射主要来源。仿真分析结果表明:设计的遮光罩,采用设置光阑、消杂光螺纹和发黑、涂消光漆等杂散光抑制措施,在光学系统太阳光与光学系统光轴夹角大于1°时,点源透过率均≤10-4,达到了杂散光抑制的要求,验证了文中杂散光抑制方法的有效性。

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