全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案(英文)

余和军; 余金中; 陈绍武

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全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案(英文)

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以光子晶体Fabry-Perot腔为例,提出了全电子束光刻制作光子晶体波导器件的解决方案.曝光光子晶体区域时采用较小的曝光步长,同时引入额外的邻近效应补偿本征邻近效应,从而获得高质量的掩模图形.曝光较长的输入、输出波导时,采用较大的曝光步长以提高电子束扫描速度,同时在波导的写场(write-field)过渡区引入一个锥形波导以减小写场拼接误差对光传输效率的影响.实验结果证明,这种方法既能保持小孔制作需要的高精度,也能很大程度上提高光刻效率.

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来源
《半导体学报：英文版》|2006年第11期|1894-1899|共6页
作者
余和军; 余金中; 陈绍武;
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作者单位

中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类集成光学器件;
关键词
光子晶体; 电子束光刻; 写场拼接; 邻近效应校正;
入库时间 2022-08-20 18:19:25

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