ChCl-Urea低共熔溶剂中Ni-P合金的电沉积行为研究

崔琳琳; 王贺; 崔家宁; 张春霞; 战充波; 孙海静; 周欣; 孙杰

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以氯化胆碱-尿素(ChCl-Urea)低共熔溶剂为基础液,电沉积制备Ni-P合金镀层。采用循环伏安和计时电流技术对Ni-P合金镀层的电沉积机理进行研究,使用扫描电子显微镜(SEM/EDS)和X射线衍射(XRD)对镀层的微观形貌、元素组成和物相组成进行表征,利用动电位极化曲线对镀层的耐腐蚀性能进行分析。结果表明,Ni-P合金镀层在ChCl-Urea-NiCl_(2)-NaH_(2)PO_(2)低共熔溶剂中的电沉积过程是受扩散步骤控制的不可逆过程,且成核机理为三维连续成核,该体系下可制得光亮、平滑、致密的镀层。

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来源
《沈阳理工大学学报》 |2022年第4期|62-67|共6页
作者
崔琳琳; 王贺; 崔家宁; 张春霞; 战充波; 孙海静; 周欣; 孙杰;
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作者单位

沈阳理工大学环境与化学工程学院;

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正文语种 chi
中图分类 TQ153.16;
关键词
低共熔溶剂; 镍磷合金; 电沉积; 耐腐蚀性;

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