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磁场对麦瓦(MEVVA)离子源电荷密度分布的影响

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为解决麦瓦(MEVVA)离子源束流的径向分布均匀性问题,采取了加入会切磁场的方法. 会切磁场的安放位置不同得到束流分布均匀性的程度不同. 另外,如安放一纵向磁场对分布的均匀性也有改善,但不如在合适位置安放会切磁场的效果好.

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来源
《天津师范大学学报（自然科学版）》 |2003年第1期|59-62|共4页
作者
刘谦祥; 郭希铭; 赵杰;
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作者单位

天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074;

天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074;

天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074;

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正文语种 chi
中图分类磁约束;
关键词
MEVVA源; 电荷密度; 会切磁场;

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