氧化受损甘氨酸分子内质子迁移的机理

孟祥军; 石瑾; 杨笑春; 贾俊芳; 杨静

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氧化受损甘氨酸分子内质子迁移的机理

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采用M06,B3LYP和CCSD方法,在6-31++G**基组水平研究了氧化受损甘氨酸分子的构象异构化机理,探讨了甘氨酸氧化受损后的性质变化和溶剂化效应.找到7个甘氨酸阳离子稳定构型和9个过渡态,发现甘氨酸阳离子构象异构化过程存在质子迁移反应,质子从羧基迁移到氨基的能垒为15.2kJ/mol,从α-C迁移到羰基O的能垒为138.6kJ/mol;最稳定甘氨酸构象失去一个电子的垂直电离势为878.0kJ/mol;N5原子失电子最多(超过0.4),其他各原子失去电荷不多(均低于0.1);电荷变化导致迁移质子所在化学键显著被削弱.溶剂化效应能显著增高质子迁移反应能垒.

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来源
《厦门大学学报：自然科学版》 |2016年第2期|168-173|共6页
作者
孟祥军; 石瑾; 杨笑春; 贾俊芳; 杨静;
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作者单位

唐山师范学院化学系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类结构化学;
关键词
氧化损伤; 甘氨酸阳离子; 质子迁移; 反应机理; 量子化学;

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