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庄芹芹; 林伟; 王元樟; 张小英;
厦门理工学院光电与通信工程学院,福建厦门361024;
光电技术福建省高校重点实验室,福建厦门361024;
厦门大学福建省半导体材料及应用重点实验室,福建厦门361005;
深紫外LED; AlN; 极性可控生长; 第一性原理计算;
机译:AlN极性在AlN(0001)/ Diamond(100)异质结的能带排列中的作用:第一性原理研究
机译:低温氨基分子束外延生长的金属极性AlGaN / AlN / GaN和AlN / GaN异质结构中的纯AlN层
机译:Ti2AlN和Ti4AlN3的机械和电子性能:第一性原理研究
机译:MOCVD使用双Aln中间层的图案Si(111)衬底上的AlGaN / GaN Hemts的生长特性
机译:块状AlN单晶衬底上的富铝AlGaN和AlN生长
机译:X射线光发射光谱法测量的非极性A面GaN / AlN和AlN / GaN异质结构的能带偏移
机译:al-alN-TiN中闪锌矿alN层的第一性原理建模 多层
机译:GaN,alN及其合金缺陷的第一性原理研究
机译:AlN AlN AlN AlN AlN烧结体AlN基质及其制备方法
机译:用于沉积压电薄膜的ALN ALN方法,该方法是ALN的压电薄膜
机译:生产Aln晶须,Aln晶须,Aln晶须,树脂模制体的方法和装置,以及树脂模制体的生产方法
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