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太阳能级硅片化学清洗技术进展

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摘要

介绍了硅片表面污染物的种类、来源及形成机理,论述了太阳能级硅片传统的RCA清洗技术中各种清洗液的清洗原理和优缺点,同时对改进的RCA清洗、HF/O3和电化学清洗等新型湿化学清洗技术进行了阐述,指出了太阳能级硅片化学清洗技术的发展方向。

著录项

来源
《新余学院学报》 |2011年第6期|P.92-94|共3页
作者
周小英;
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作者单位

新余学院新能源科学与工程学院,江西新余338004;

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正文语种 CHI
中图分类洁净技术;
关键词
光伏; 硅片; 湿化学; 清洗;

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