钼薄膜制备技术研究

雷洁红; 邢丕峰; 唐永建; 吴卫东

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钼薄膜作为散射层材料常运用在软X射线多层膜中.制备表面超光洁、厚度为几个纳米的钼薄膜对软X射线短波区多层膜的制备具有重要意义.文章介绍了制备钼薄膜的几种方法,包括化学气相沉积、机械研磨、电解抛光、磁控溅射和脉冲激光沉积.比较研究后认为脉冲激光沉积有望满足软X射线短波区多层膜的制备需要.脉冲激光沉积可以制备表面质量高(Rq<10nm),厚度可达几个纳米的薄膜,是制备薄膜的一种重要手段.

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来源
《云南大学学报：自然科学版》 |2009年第s1期|282-284|共3页
作者
雷洁红; 邢丕峰; 唐永建; 吴卫东;
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作者单位

中国工程物理研究院;

四川绵阳621900;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TB383.2;
关键词
钼薄膜; 表面粗糙度; 脉冲激光沉积; 软X射线多层膜;

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