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李军; 左敦稳; 朱永伟; 孙玉利; 王军;
南京航空航天大学机电学院,江苏,南京,210016;
无磨料化学机械抛光; 材料去除; 表面损伤;
机译:异丙苯过氧化氢-H2O2浆料对硬盘基板的无磨料化学机械抛光
机译:使用三氯化铁无磨料溶液的化学机械抛光Ge2Sb2Te5
机译:化学机械抛光中磨料-磨料相互作用的模型
机译:无磨料无磨料化学机械抛光的椭圆形表征
机译:用于化学机械抛光的二氧化硅和二氧化铈纳米颗粒混合磨料浆料的胶体稳定性研究。
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:用于化学机械抛光的磨料
机译:白眉鲸新型无创压力评估方法的研究进展。
机译:使用固定的磨料抛光垫和专门用于化学机械抛光固定的磨料的铜层化学机械抛光溶液的铜化学机械抛光工艺
机译:--使用固定的磨料抛光垫和专门为固定的磨料垫进行化学机械抛光而采用的铜层化学机械抛光溶液进行的铜化学机械抛光工艺
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