CVD金刚石薄膜摩擦学性能的研究现状

孙洪涛; 王小平; 王丽军; 孙义清; 王金烨; 王子风; 曹双迎

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CVD金刚石薄膜摩擦学性能的研究现状

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化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)金刚石薄膜通常是一种表面粗糙的多晶薄膜,其摩擦系数相对于光滑金刚石明显偏高,这制约着其在摩擦学领域的应用.在综合分析近年来该领域研究的基础上,总结了CVD金刚石薄膜摩擦学性能的主要影响因素,并从降低其摩擦系数的角度出发,着重讨论了几种提高CVD金刚石薄膜摩擦性能的途径.

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来源
《材料导报》 |2014年第5期|47-52,73|共7页
作者
孙洪涛; 王小平; 王丽军; 孙义清; 王金烨; 王子风; 曹双迎;
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作者单位

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

上海理工大学理学院,上海 200093;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
金刚石薄膜; 摩擦学性能; 纳米金刚石薄膜; 掺杂类金刚石薄膜;

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