溅射时间对硼掺杂ZnO薄膜性能的影响

化麒麟; 付蕊; 杨雯; 杨培志

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溅射时间对硼掺杂ZnO薄膜性能的影响

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采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了硼掺杂氧化锌(ZnO∶B)薄膜,利用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计和四探针测试仪研究了溅射时间与薄膜的结构、光学和电学特性的关系.结果表明:ZnO∶B是多晶薄膜,具有六方钎锌矿结构且呈c轴择优取向,其透明导电性能优良,在可见光谱范围的平均透先率超过80％,薄膜电阻率随溅射时间延长而降低至3.0×10-3 Ω·cm.

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来源
《材料导报》 |2013年第18期|16-18,22|共4页
作者
化麒麟; 付蕊; 杨雯; 杨培志;
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作者单位

云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,昆明650092;

云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,昆明650092;

云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,昆明650092;

云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术与制备教育部重点实验室,昆明650092;

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正文语种 chi
中图分类功能材料;
关键词
ZnO∶B薄膜; 溅射时间; 光电特性; 透光率;

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