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AZO薄膜制备工艺及其性能研究

         

摘要

The preparation technology and opto-electrical properties of AZO thin films are reviewed. The influences of magnetron sputtering parameters such as substrate temperature,sputtering power,gas pressure, sputtering time.distance between substrate and target,negative bias and so on on the structural and opto-electrical properties of AZO thin films are summarized. Moreover,the key problems and the challenges of the present researches are discussed and the possible future developments are given.%综述了掺铝氧化锌(AZO)薄膜制备方法与光电特性,重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响,并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战,展望了未来的研究方向.

著录项

  • 来源
    《材料导报》 |2012年第1期|35-39|共5页
  • 作者单位

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    西南交通大学超导研究开发中心材料先进技术教育部重点实验室,成都610031;

    新南威尔士大学材料科学与工程学院,悉尼2052;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    AZO; 结构特性; 光电特性;

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