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周秋霞; 史新伟; 靳慧智; 姚宁; 王新昌;
郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州,450052;
金刚石薄膜; 附着力; 预处理; 过渡层; 沉积条件;
机译:Ar / CH4微波CVD等离子体中在钛上生长的附着力强的纳米晶金刚石薄膜的特性
机译:热丝CVD金刚石薄膜在AISI 316型奥氏体不锈钢上的附着力
机译:由MWPECVD纳米结构材料2012生产的微米级和亚微米级的纳米晶金刚石薄膜的光滑度提高。特刊编辑:Juan Manuel Rojo,Vasileios Koutsos
机译:一种提高PE-CVD SiO 2 sub>对金属的附着力的方法Cyclotene TM sup> 5021聚合物夹层电介质
机译:界面改性会影响化学气相沉积金刚石薄膜的附着力。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
机译:掺硼CVD金刚石薄膜。第一部分历史,生产和表征硼掺杂CVD金刚石薄膜。第一部分。历史,生产和表征
机译:金刚石薄膜在钨上的附着力
机译:通过等离子处理通过CVD的钽和氮化钽的方法提高了控制膜的附着力和耐久性
机译:通过等离子体处理提高CVD钽和氮化钽调制膜的附着力和耐久性的方法
机译:添加卤素可提高CVD铜与阻挡层的附着力
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