磁控溅射法制备PVD薄膜晶格结构分析

阿苏娜; 李国新; 王广海

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磁控溅射法制备PVD薄膜晶格结构分析

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对物理气相沉积（PVD）薄膜材料和固体金属材料进行了XRD扫描分析。结果表明,PVD薄膜晶体与固体金属晶体未出现明显变化,但衍射峰呈现宽化。由于磁控溅射技术制备出的PVD薄膜晶粒是堆层沉积,致使PVD薄膜出现晶格不完整性,即存在各种晶格缺陷和晶格畸变。PVD薄膜晶格缺陷是导致薄膜材料电性能变化的主要原因。

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来源
《材料导报》 |2008年第s1期|215-216|共2页
作者
阿苏娜; 李国新; 王广海;
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作者单位

北京理工大学宇航科学技术学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
衍射峰; 薄膜; 磁控溅射; 晶体结构;

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