FRAM用铁电薄膜疲劳问题研究进展

黄平; 徐廷献

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综述了FRAM用铁电薄膜的疲劳机理,对比了钙钛矿结构铁电体与铋层类钙钛矿结构铁电体的区别,介绍了铋层类钙钛矿结构铁电材料的优良抗疲劳性能与该类铁电材料结构的密切关系,和为提高铋层类钙钛矿结构铁电薄膜Bi4Ti3O12的抗疲劳性能所采取的掺杂改性的研究现状,并针对目前铁电薄膜制备中存在的问题提出了今后研究需着重解决的关键问题.

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来源
《材料导报》 |2006年第1期|9-13|共5页
作者
黄平; 徐廷献;
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作者单位

太原理工大学理学院物理系,太原,030024;

天津大学材料学院,天津,300072;

太原理工大学理学院物理系,太原,030024;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁性材料;
关键词
铁电薄膜; 疲劳; 钙钛矿结构; 铋层类钙钛矿结构; 掺杂改性;

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