Au／Gd多层膜的制备和表征

张继成; 王占山; 吴卫东; 许华

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介绍了用磁控溅射法制备Au／Gd（金／钆）多层膜的初步实验结果。在摸索出的工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，按照设计的周期结构（设计周期厚度10nm．Au／Gd=5nm／5nm，总周期数为25）制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品。X—Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9、95nm.和设计值十分吻合，原子力显微镜（AFM）的检测表明，薄膜的表面粗糙度小于1、7nm。

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来源
《材料导报》 |2005年第F05期|P.81-82,86|共3页
作者
张继成; 王占山; 吴卫东; 许华;
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作者单位

中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳621900;

同济大学物理系,上海200092;

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正文语种 CHI
中图分类特种结构材料;
关键词
磁控溅射; Au／Gd（金／钆）多层膜; X-Ray衍射仪小角衍射; 原子力显微镜（AFM）;

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