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王三胜; 顾彪; 徐茵; 秦福文; 窦宝锋; 杨大智;
大连理工大学电气工程与应用电子技术系;
三束材料改性国家重点实验室;
材料科学与工程系大连,116024;
GaN 外延生长 掺杂 半导体器件;
机译:具有通过偏置辅助光电化学氧化方法生长的栅氧化层的GaN基p型金属氧化物半导体器件
机译:用于GaN基光电器件的嵌入式光子晶体的生长
机译:掺有铁调制和无意掺杂GaN缓冲的蓝宝石上生长的GaN / AlGaN / AlN / GaN HEMT的比较:材料生长和器件制造
机译:GaN基表面声波器件在光电子领域的应用
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:在掺Eu(RE)的GaN中利用天然氧以实现光电子应用中的器件兼容性
机译:GaN基电子和光电结构的外延生长和器件制造
机译:用于UV光电探测器应用的GaN,alN和alGaN的mOCVD生长。
机译:GaN基半导体光学器件,GaN基半导体光学器件的制造方法,外延晶片的生长方法和GaN基半导体膜
机译:外延生长衬底,GaN基半导体层的制造方法,GaN基半导体层,发光器件的GaN基半导体制造方法和GaN基半导体发光元件
机译:GaN基元素GaN单晶生长方法,GaN衬底制造方法和GaN基器件制造方法
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