ZnO薄膜生长技术的最新研究进展

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ZnO薄膜生长技术的最新研究进展

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ZnO是一种新型的I-Ⅵ族半导体材料,目前已研究开发了许多ZnO薄膜的生长技术.其中,磁控溅射、喷雾热分解、分子束外延、激光脉冲沉积、金属有机物化学气相外延等沉积技术得到了有效应用;而一些新的工艺方法,如溶胶-凝胶、原子层处延、化学浴沉积、离子吸附成膜、离子束辅助沉积、薄膜氧化等也进行了深入研究.详细阐述了ZnO薄膜生长技术的最新研究进展.

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来源
《材料导报》 |2002年第9期|33-36|共4页
作者
汪雷;
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作者单位

浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类半导体技术;
关键词
ZnO薄膜生长技术开发应用;

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