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微波等离子体化学气相沉积制备SrTiO3陶瓷薄膜

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本研究采用微波等离子体化学气相沉积方法在Ａｌ２Ｏ３基片上制备了ＳｒＴｉＯ３基陶瓷薄膜。实验结果表明，当沉积薄膜衬底温度在７００℃以上时，可以制备出结晶性较好的具有一定氧敏性能的ＳｒＴｉＯ３薄膜。

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来源
《材料导报》 |2000年第Z10期|158-159|共2页
作者
季惠明; 丁栋舟;
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作者单位

天津大学材料学院;

天津大学材料学院;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类薄膜技术;
关键词
制备; SrTiO3陶瓷薄膜; 氧敏性能; MPCVD;

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