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直流电弧等离子体喷射（DCPJ）法在沉积金刚石膜上的应用

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直流是弧等离子体喷射法是制备金刚石膜的一项很有前任的技术。综述了直流电弧等离子体喷射法的原理，进展状况、工艺上的改进和建立机理模型上的努力。

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来源
《材料导报》 |1999年第1期|32-34|共3页
作者
翟华嶂; 曹传宝;
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作者单位

北京理工大学材料研究中心等离子体实验室;

北京理工大学材料研究中心等离子体实验室;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN304.18;
关键词
等离子体喷射; 化学气相沉积; 金刚石; 薄膜; DCPJ;

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