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AIN压电薄膜研究进展

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摘要

介绍了AlN压电薄膜的研究现状,着重突出了AlN薄膜的制备方法、择优取向结构及表面形貌等方面的研究,尤其对脉冲激光沉积工艺(PLD)镀膜的基本原理和过程、分别釆用周期价键链(PBC)理论和断键模型对薄膜晶面择优取向机理的分析作了较为详细的探讨。最后简单讨论了AlN压电薄膜研究的发展趋势。

著录项

来源
《材料导报》 |2003年第f09期|210-213|共4页
作者
刘吉延; 斯永敏;
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作者单位

国防科技大学航天与材料工程学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类功能材料;
关键词
AlN压电薄膜; 脉冲激光沉积; PLD; 周期价键链; PBC; 择优取向机理; 功能材料;

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