首页> 中文期刊> 《材料科学与工艺》 >一种新型的激光—等离子体辅助化学气相沉积装置的研究

一种新型的激光—等离子体辅助化学气相沉积装置的研究

         

摘要

为探索用激光离子体共同辅助化学气相沉积过程以实现室温沉积的可能性,设计并制造了一种新型的CVD装置,实际了SiH4-NH3-N2体系制取Si3N4膜的试验。结果表明,激光和等离子体是可以相互促进,共同辅助CVD过程的,且两者均处于较代的能量水平。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号