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李洪波; 赵学增; 肖增文; 褚巍; 王凌;
哈尔滨工业大学,机电学院,哈尔滨,150001;
线宽; 边缘提取; 线边缘粗糙度; 曲线拟合;
机译:在干燥后蚀刻线和嵌段共聚物光刻的空间模式下的三维线边缘粗糙度
机译:链接EUV光刻线边缘粗糙度和16 nm NAND存储器性能
机译:在NAND闪存的光刻线边缘粗糙度和纠错码要求之间进行权衡
机译:湿刻线与干刻线的线边缘粗糙度比较
机译:浅沟槽隔离蚀刻线边缘粗糙度的表征。
机译:基于脉冲激光UWPI(超声波传播成像)的NDT技术的RMS和边缘检测图像处理算法的比较研究
机译:浅沟槽隔离蚀刻线边缘粗糙度的表征
机译:三种粗糙度函数确定方法的比较。
机译:表面粗糙度用热精轧机柱的确定方法和确定是否存在氧化皮缺陷的风险的方法,以及表面粗糙度用热精轧机柱的确定方法和确定方法的表面粗糙度的方法工作清单
机译:具有改善的粗糙度的边缘的边缘抛光的氮化物半导体基板,边缘抛光的GaN单晶衬底基板以及处理氮化物半导体基板边缘的方法
机译:能够防止图案的摆动,线边缘粗糙度和线宽度粗糙度的半导体装置的制造方法
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