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基于单片机的石英晶片镀膜测控系统设计

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摘要

本文阐述了石英晶片真空蒸发镀膜测控的基本原理和镀膜过程中石英晶片谐振频率变化与镀膜厚度之间的关系。主要研究了以W77E516单片机为核心,配合其它相关芯片完成石英晶片真空蒸发镀膜过程测控系统的工作原理和实现方案,重点阐述了该系统的硬件设计和软件设计方法。

著录项

来源
《科技与创新》 |2007年第11期|131-133|共3页
作者
陈维; 刘桂礼; 李东; 王艳林;
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作者单位

北京机械工业学院电子信息工程系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜技术;
关键词
石英晶片; 谐振频率; 蒸发镀膜;

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