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日研制出高密度磁盘磁头薄膜

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新华社东京电日本富士通研究所日前宣布研制成功高密度磁盘用读取磁头上的磁性物质薄膜，使这种磁头可读取信息记录密度为每平方英寸４０千兆字节的高密度磁盘。这种新型磁头薄膜的反强磁性层采用钯、白金、锰等材料，并将薄膜厚度从原来的５０纳米降低到３０纳米，降低了...

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《现代电子技术》 |1998年第6期||共页
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正文语种 chi
中图分类总体结构、系统结构;
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