衬底温度对制备出CNT膜的影响

张武勤; 高金海

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衬底温度对制备出CNT膜的影响

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在陶瓷衬底上通过磁控溅射方法镀上金属钛层,用含铁杂质的氧化硅对钛层进行抛光,通过微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在不同的温度下短时间里制备出CNT膜.利用扫描电子显微镜、拉曼光谱,X射线衍射,分析了薄膜的结构和表面形貌.仔细研究不同温度下制备的CNT膜,得出衬底温度400℃时制备的碳膜是以非晶碳为主,600℃时置备的碳膜是良好的碳纳米管膜,800℃制备的碳纳米管膜的缺陷变得很多,以碳纳米链为主.最后得出了温度对催化活性有很大影响的结论.

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来源
《现代电子技术》 |2010年第12期|176-178|共3页
作者
张武勤; 高金海;
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作者单位

郑州大学电气工程学院,河南,郑州,450001;

郑州师范高等专科学校,河南,郑州,450044;

郑州师范高等专科学校,河南,郑州,450044;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类特种结构材料;薄膜物理学;
关键词
微波等离子体化学气相沉积; 碳纳米管; 碳纳米链; 陶瓷衬底;

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