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聚焦离子束技术雕刻出的纳米级图案

         

摘要

美国国家标准与工艺研究所(NIST)报道,将离子流聚焦成一个1nm大小的光点技术在纳米工艺中有广泛用途,利用这项技术可在半导体上刻出比目前所有方法都更精小的图形,它还能进行以比目前电子显微镜所达到的分辨率更为细小的非破坏成像。

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