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林敏; 贾倩; 刘子源; 魏炎; 刘斌; 孟雨; 邱航; 徐顺秋; 雷绍民;
武汉京东方光电科技有限公司;
武汉理工大学资源与环境工程学院;
高纯石英; 晶格杂质; 分析与分离;
机译:晶格应变变化的类型,负载在二氧化硅基质上的二氧化钛的活化能比纯二氧化钛的活化能的还原剂
机译:ICP-MS微波辅助挥发法测定高纯硅粉和石英中的痕量杂质
机译:高纯钛和钨中微量杂质的放射化学中子活化分析
机译:共注入FLA和氟对Ge中n型杂质的扩散控制和高活化技术
机译:高纯N型硅中金属杂质对少数载流子寿命的影响。
机译:基质消除离子色谱法测定高纯碘化铯中痕量阴离子杂质
机译:高纯硅生产中石英的杂质分布和还原行为
机译:少量杂质对高纯铁再结晶和晶粒长大的影响。注3。硼对再结晶的影响及杂质对正常和异常晶粒长大的影响
机译:分离2,4-二异氨基甲苯的步骤从技术上讲,是纯的或异构体的高含量的2,4-二异氨基甲苯的混合物,异构体2.4-2.6-和二异氨基甲苯的混合物。
机译:高纯合成石英玻璃粉,其生产及使用该粉的高纯合成石英玻璃体
机译:高纯透明石英各杂质含量
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