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吕宪义; 金曾孙; 杨广亮;
吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130012;
EA-CVD; 金刚石厚膜; 品质和膜厚均匀性;
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法在多晶金刚石厚膜上制备纳米晶金刚石膜
机译:微波等离子体化学气相沉积法在多晶金刚石厚膜上制备纳米晶金刚石膜
机译:MPCVD法制备大厚金刚石膜的残余应力和微观结构的研究
机译:类金刚石碳膜和金刚石膜的生长和特征:原子氢束的作用和电子场发射的研究。
机译:等离子体增强原子层沉积法制备硅衬底上Al2O3膜的均匀性和钝化研究
机译:通过CVD(复杂的核物理分析方法)获得的金刚石膜的空间均匀性,元素和同位素组成的研究
机译:板几何厚扩散极限中金刚石差和低阶节点数值输运方法的行为
机译:基于高效金属氧化物的热电厚膜,其制备方法和使用该膜的热电模块,特别是用于形成具有纹理对准性的厚陶瓷膜
机译:膜厚均匀性的评价方法和装置以及膜厚自动控制方法和装置
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