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Al_2O_3/PI薄膜纳米颗粒形态的SAXS研究

         

摘要

聚酰亚胺(PI)/无机纳米杂化材料具有良好的电绝缘性、优异的机械性能以及高耐热等特性,广泛地应用于电气电子领域.本文利用同步辐射小角X射线散射(SAXS)技术对聚酰亚胺纳米杂化薄膜(Al_2O_3/PI)进行微观结构分析,结合透射电子显微镜(TEM)测试的结果,研究了杂化薄膜中无机纳米颗粒的特性.研究结果表明,无机纳米颗粒尺寸约为4–7 nm,纳米颗粒与基体之间具有明锐的界面,薄膜体系分形维数为2.48.

著录项

  • 来源
    《核技术》 |2009年第12期|901-904|共4页
  • 作者单位

    哈尔滨理工大学应用科学学院,哈尔滨,150080;

    黑龙江科技学院实训中心,哈尔滨,150027;

    哈尔滨理工大学应用科学学院,哈尔滨,150080;

    工程电介质及其应用技术教育部重点实验室,哈尔滨,150080;

    黑龙江科技学院实训中心,哈尔滨,150027;

    中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049;

    中国科学院高能物理研究所多学科中心,北京,100049;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 特种结构材料;
  • 关键词

    小角X射线散射; 纳米杂化; 聚酰亚胺; 分形;

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