离子束增强沉积碳膜及其在抑制电子发射中的应用

著录项

• 来源
  《核技术》 |2004年第5期|334-343|共10页
• 作者

  柳襄怀; 朱宏; 任琮欣; 郑志宏; 徐静芳; 陈树德;

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• 作者单位

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,上海,200050;

  华东师范大学信息学院电子工程系,上海,200062;

  华东师范大学理工学院物理系,上海,200062;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,上海,200050;

  中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,上海,200050;

  华东师范大学信息学院电子工程系,上海,200062;

  华东师范大学理工学院物理系,上海,200062;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 行波管;掺杂;
• 关键词

  离子束增强沉积; 碳膜; 抑制电子发射;