氧化钨薄膜变色机理研究

著录项

• 来源
  《核技术》 |2004年第12期|943-945|共3页
• 作者

  马创新; 周春兰; 秦秀波; 王宝义; 魏龙; 奎热西; 钱海杰; 苏润; 钟俊;

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• 作者单位

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

  中国科学院高能物理研究所,北京,100049;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 薄膜的性质;放射性原子核衰变;
• 关键词

  三氧化钨; 热致变色; 电致变色; 机理; 表面;