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高剂量N＋注入碳膜形成氮化碳CNx的研究

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研究了利用高剂量的Ｎ＾＋注入碳膜形成氮化碳ＣＮｘ的可能性，对这种新材料进行了城叶变换红外吸收光谱、Ｘ射线光电子能说、Ｘ射线衍射和薄膜的维氏显微硬度等测量。结果表明，在１００ｋｅＶ高剂量Ｎ＾＋注入碳膜过程中形成了含有碳氮共价键成分的ＣＮｘ化合物。

著录项

来源
《核技术》 |1996年第2期|90-92|共3页
作者
辛火平; 石晓红;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TQ127.16;
关键词
离子注入; 碳膜; 氮化碳; X射线; 光电子能谱;

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