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扇聚焦等时性回旋加速器性能的改进和提高

         

摘要

安装了ECR离子源及其外注入系统后,增加了离子种类、提高了束流强度。扇聚焦等时性回旋加速器(SFC)主要工作点分布于三次谐波加速区域,为了匹配外注入系统,仔细地研究了中心区,重新设计加工了D盒及假D。为了改进SFC性能,提高运行效率,同时进行了其它改进工作。介绍了改进后的SFC的调束工作。

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