离子法向轰击单元素靶溅射产额的解析估算

机译：磁控溅射法在生长膜的低离子轰击和高离子轰击下制备的nc-TiC / a-C：H涂层的摩擦学性能

机译：Ar〜+和H_2〜+离子轰击铍轰击中溅射和散射粒子的离子光子发射的基本特性

机译：在稀释氩/氧气混合物中通过低能量Ar +离子轰击溅射在铜靶的溅射期间产生正极和带负电的分子离子

机译：离子束轰击引起的单元素和多元素靶的差分溅射产率测量

机译：低能离子轰击铜和铝表面会溅射二次离子。

机译：在硅的低能氩离子轰击下从波纹到刻面结构的转变：了解阴影和溅射的作用

机译：由MEV重离子轰击元素靶向诱导KA X射线卫星线的鉴定

机译：电力推进航天器集成中氙离子溅射产额数据及其拟合的研究。

机译：溅射涂覆方法，包括在包含溅射等离子体和第二等离子体的单独的真空区域中用离子轰击衬底

机译：通过轰击法向入射离子产生多畴取向层的方法

机译：用于离子轰击，使用该离子轰击装置的离子轰击电极以及离子轰击方法