60Co双投影辐射成像系统中的散射干扰模拟研究

倪民子; 王振涛; 丛鹏; 李立涛

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60Co双投影辐射成像系统中的散射干扰模拟研究

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60Co双投影辐射成像系统,采用两个射线源,分别底置和侧置,通过一次扫描即可获得仰视和侧视两个方向的投影图像.但由于散射的存在,两个投影平面的成像会相互干扰.为降低两投影平面间的散射影响,提高该系统辐射图像的质量,首先基于蒙特卡罗方法建立仿真模型,并对空载时散射分布的模拟值与实验值进行对比,验证了模型的可靠性,然后模拟分析了不同投影平面间距、探测器周围布置不同屏蔽材料(钨、铅、钢和铝)以及屏蔽层位置和厚度对散射的影响.结果表明:当投影平面间距为40 cm并且屏蔽层厚度相同时,使用铅并将其布置在支撑架和侧视电离室之间时,对散射的屏蔽效果最好;投影平面间距分别为40 cm和80 cm时,散射可以分别降低至间距为10 cm时的55％和40％以下,安装2.5 cm的铅片可以将散射进一步降低80％.此研究为双投影系统针对散射校正的硬件改良和升级提供参考与指导.

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来源
《核技术》 |2020年第4期|64-69|共6页
作者
倪民子; 王振涛; 丛鹏; 李立涛;
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作者单位

清华大学核能与新能源技术研究院北京 100084;

核检测技术北京市重点实验室北京 100084;

清华大学核能与新能源技术研究院北京 100084;

核检测技术北京市重点实验室北京 100084;

清华大学核能与新能源技术研究院北京 100084;

核检测技术北京市重点实验室北京 100084;

清华大学核能与新能源技术研究院北京 100084;

核检测技术北京市重点实验室北京 100084;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类原子能技术的应用;
关键词
60Co双投影辐射成像系统; 蒙特卡罗; 散射分布; 硬件校正;

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