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二元光学元件的制作技术与进展

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摘要

综述了二元光学元件的常用制作工艺技术,包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法.分析了这些方法的优缺点,并对其制作技术的发展进行了评述.

著录项

来源
《光学仪器》 |2005年第2期|80-85|共6页
作者
张羽; 杨坤涛; 杨长城;
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作者单位

华中科技大学光电系,湖北,武汉,430074;

华中科技大学光电系,湖北,武汉,430074;

华中光电技术研究所,湖北,武汉,430074;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类集成光学器件;
关键词
二元光学; 制作工艺; 刻蚀; 直写法;

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