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软X射线偏振光学元件的设计与制备

         

摘要

叙述了软X射线波段反射式多层膜起偏器和检偏器的设计原则和设计方法,优化计算了5.9nm波长处多层膜光学元件的偏振性能,阐述了其制备的过程,利用小角度衍射法对多层膜的厚度进行了测量,并对同步辐射测量的反射率结果进行了拟合分析.

著录项

  • 来源
    《光学仪器》 |2004年第2期|143-146|共4页
  • 作者单位

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

    同济大学精密光学工程技术研究所,上海,200092;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜的性质;
  • 关键词

    软X射线; 偏振; 多层膜; 拟合;

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