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偏心孔阑离轴照明EUVL微缩投影物镜的设计及模拟装调

         

摘要

针对极紫外投影光刻(Extreme Ultraviolet Lithography,简称EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题,对EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择,设计了离轴照明方式的Schwarzschild微缩投影成像物镜.利用基于奇异值分解的牛顿迭代法对敏感矩阵进行分解,求出相应失调量的大小,以实现系统的精密装调.

著录项

  • 来源
    《光学仪器》 |2003年第4期|39-43|共5页
  • 作者单位

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

    中科院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林,长春,130022;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 几何光学;
  • 关键词

    极紫外投影光刻; Schwarzschild投影物镜; 计算机辅助装调;

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