热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响

汤兆胜; 范正修; 邵建达

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热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响

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用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构.这种结构变化导致在300℃以下的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收;在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小.

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来源
《光学仪器》 |2001年第5期|76-80|共5页
作者
汤兆胜; 范正修; 邵建达;
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作者单位

中国科学院上海光学精密机械研究所;

中国科学院上海光学精密机械研究所;

中国科学院上海光学精密机械研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的性质;
关键词
V2O5; 光学性能; 热处理; 结构;

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