应用IAD工艺在室温塑料片上淀积MgF2减反膜

高扬; 周鹏飞

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本文介绍了应用离子辅助淀积技术(IAD)在室温塑料基片(CR-39)上淀积MgF_2减反膜。应用IAD工艺在塑料基片上淀积的MgF_2单层减反膜光学性能稳定,牢固度耐磨性等机械强度指标明显提高。XRD分析表明离子辅助轰击有助于薄膜结构晶化。应用该工艺可以解决由于塑料基片不能加高温烘烤因而无法制得牢固优质膜层的问题,这无疑为塑料基片的表面处理开辟了一条新途径。

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来源
《光学仪器》 |1991年第2期|20-24|共5页
作者
高扬; 周鹏飞;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类塑料制品生产工艺;
关键词
IAD; 塑料元件; 塑料片; MgF2; 减反膜;

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