澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电子元件的最佳设备

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据澳大利亚莫纳什大学网站报道，澳大利亚研究人员正在研制世界最强大的纳米设备之一——电子束曝光系统（EBL）。该系统可标记纳米级的物体，还可在比人发直径小1万倍的粒子上进行书写或者蚀刻。电子束曝光技术可直接刻画精细的图案，是实验室制作微小纳米电子元件的最佳选择。这款耗资数百万美元的曝光系统将在澳大利亚亮相，并有能力以很高的速度和定位精度制出超高分辨力的纳米图形。

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来源
《光学仪器》 |2009年第5期|77-77|共1页
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正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;理论;
关键词
电子束曝光系统; 纳米设备; 实验室制作; 澳大利亚; 电子元件; 电子束曝光技术; 研究人员; 纳米图形;

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