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衍射光学元件表面形貌测量方法研究

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摘要

提出了一种基于双光路双波长相移干涉显微原理的ＤＯＥ三维表面形貌测量的新方法，并建立了相应的测量系统。理论分析和测量结果表明，横向分辨率为０．５ｎｍ（ＮＡ＝０．４），在整个纵向测量范围内重复测量精度优于１．３ｎｍ，满足了ＤＯＥ表面形貌的需要。

著录项

来源
《光电工程》 |1998年第A12期|29-33|共5页
作者
周明宝; 林大键;
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作者单位

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室;

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重;

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正文语种 CHI
中图分类 TH740.3;
关键词
衍射光学元件; 面形测量; 三维测量; 相移干涉术;

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