a-Si/μc-Si叠层电池中间层材料SiOx：H制备研究

岳强; 张晓丹; 张鹤; 郑新霞; 魏长春; 孙建; 张建军; 耿新华; 熊绍珍; 赵颖

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为提高a-Si/μc-Si叠层太阳电池的效率,采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,制备了系列n型掺磷硅氧(SiOx:H)薄膜作为中间层,研究了CO2/Si H4气体流量比、沉积功率和PH3掺杂浓度等工艺参数对材料光电特性的影响,获得了折射率、电导率和禁带宽度能够在较大范围内调控的SiOx:H薄膜。

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来源
《光电子．激光》 |2010年第2期|231-234|共4页
作者
岳强; 张晓丹; 张鹤; 郑新霞; 魏长春; 孙建; 张建军; 耿新华; 熊绍珍; 赵颖;
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作者单位

南开大学光电子薄膜器件与技术研究所;

光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室;

光电信息技术科学教育部重点实验室;

天津300071;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
a-Si/μc-Si叠层太阳电池; 中间反射层; SiOx:H薄膜;

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